산업용 가스 플랜트에서는 질소(N₂), 산소(O₂), 수소(H₂), 헬륨(He), 이산화탄소(CO₂)와 같은 핵심 기체의 안정적 공급이 매우 중요합니다.특히 반도체, 전자 제조, 제약, 화학 공정 등에서는 유량 측정의 정확성이 생산 품질, 안전성, 규정 준수와 직결되기 때문에정확도 높은 계측장비를 사용해야 합니다. 한 반도체 공장에서는 기존에 사용하던 다이어프램 가스계량기와 열 질량 유량계에서 다음과 같은 한계를 겪었습니다.. 📌 열 질량 유량계 → 가스별 교정 필요, 깨끗한 매체만 사용 가능, 높은 투자비용 발생📌 다이어프램 계량기 → 유지보수 주기 짧음, 소유량 배관에만 적합📌 연간 교정·감사 필수 → 가동 중단 및 비용 증가📌 질소 퍼징 공정 발생 → 반도체 고순도 공정에서 추가 비용 부담 ..
